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CURSO ELECTIVO Simulación de Procesos en ASPEN HYSYS

CRÉDITOS: 2 (dos) ÁREA: tecnologías aplicadas RESPONSABLE: Ing. Daniel CASTRO REQUISITOS: DESTINATARIOS: alumnos de Ingeniería Química regulares en Cinética Química

28 de agosto de 2014, 12:34.

CURSO ELECTIVO Simulación de Procesos en ASPEN HYSYS

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