CURSO ELECTIVO Simulación de Procesos en ASPEN HYSYS
CRÉDITOS: 2 (dos) ÁREA: tecnologías aplicadas RESPONSABLE: Ing. Daniel CASTRO REQUISITOS: DESTINATARIOS: alumnos de Ingeniería Química regulares en Cinética Química
CRÉDITOS: 2 (dos) ÁREA: tecnologías aplicadas RESPONSABLE: Ing. Daniel CASTRO REQUISITOS: DESTINATARIOS: alumnos de Ingeniería Química regulares en Cinética Química